本製品は、オゾンと紫外線を利用した研究用の表面処理装置です。
PEG基板（ポリエチレングリコールで化学修飾したガラス基板）を利用して、細胞アレイ、プロテインアレイの製作や、オゾン/紫外線を利用した機材の表面除菌、濡れ性の制御（親水化）、吸着特性の制御 などに利用できます。

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  オゾン/UV表面処理装置（型式 ：EKBIO-1100）
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  処理槽内部
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  PEG基板
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  ステンレス製マスク

製品の特長

本製品は、放電式オゾン発生器、オゾン発生UVランプ、オゾン分解器等から構成され、予熱・加湿用ヒータにより温度の影響を受けずに安定した条件でオゾン/UV処理が可能です。

1. 放電式オゾン発生器

ON/OFF設定が可能です
酸素パージ時に放電式オゾン発生器を作動させ、短時間でオゾン濃度を高めます。

2. オゾン発生ＵＶランプ

オゾンレスランプも使用可能です
254nm以外に185nmの紫外線も放射し、オゾンを生成します。

3. 予熱用ヒータ

低温時における紫外線ランプの性能低下を防止し、光量及び反応性を安定させます。

4. 加湿用ヒータ

シャーレに入れた水を加熱し、槽内の湿度を高め、オゾン/UVの効果を促進します。

5. オゾン分解器

処理後、槽内に残留したオゾンは、装置内蔵の分解器により安全に処理されます。

構造